1、2021年上半年（6月底）:1.2021年上半年(6月底):
實(shí)現(xiàn)商標(biāo)注冊申請受理通知書的電子張貼和當(dāng)事人在網(wǎng)上自行打印；
2.2021年6月8日0時起，商標(biāo)注冊證加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局印章；商標(biāo)申請、受理、復(fù)審、異議、復(fù)審、行政訴訟的流程和文書格式暫不改變，相關(guān)文書加蓋原機(jī)構(gòu)印章作為替代章；商標(biāo)行政復(fù)議流程和文書格式暫不改變，相關(guān)文書加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局行政復(fù)議專用章。
3.2021年6月8日0時起，原產(chǎn)地地理標(biāo)志受理、核準(zhǔn)、核準(zhǔn)公告加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局印章。
4.2021年6月8日0時起，專利證書加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局印章；專利申請、受理、審查、復(fù)審、無效宣告、行政復(fù)議、行政訴訟的流程和文件格式暫不改變，相關(guān)文件加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局相應(yīng)業(yè)務(wù)印章。
5.2021年6月8日0時起，《集成電路布圖設(shè)計登記證》加蓋“國家知識產(chǎn)權(quán)局深圳市注冊花卉公司”印章；集成電路布圖設(shè)計申請、受理、審查、登記、注銷中的流程和文件格式暫不改變，相關(guān)文件將加蓋國家知識產(chǎn)權(quán)局相應(yīng)業(yè)務(wù)印章。
6.2021年底前:
商標(biāo)申請受理通知書簽發(fā)時間縮短為一個月，
商標(biāo)注冊復(fù)審期限縮短為六個月，
商標(biāo)轉(zhuǎn)讓審查周期縮短至四個月，
商標(biāo)變更和續(xù)展的審查期限縮短為2個月，
商標(biāo)檢索的盲期縮短至2個月。